真空鍍膜是鍍膜應(yīng)用的一大分支，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、理化儀器、包裝、機(jī)械、表面處理技能等諸多方面。

要使用真空沉積，簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下，通過蒸發(fā)、濺射和隨后的冷凝，將金屬薄膜或涂層涂在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體和塑料部件等物體上。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，采用真空鍍膜法屬于干式鍍膜方法。其主要方法包括:

真空蒸發(fā)鍍

原理是使用蒸發(fā)器在真空條件下加熱蒸騰物質(zhì)，使其蒸發(fā)或升華。蒸騰離子流直接射向基材，在基材上形成固體薄膜。

濺射沉積

濺射鍍膜是在真空條件下對(duì)陰*施加2000V高電壓，觸發(fā)輝光放電的過程。帶正電荷的氬離子與陰*碰撞，使其釋放出原子，這些原子通過惰性大氣積聚在襯底上，形成薄膜層。

離子涂層

干式螺桿泵生產(chǎn)廠家已經(jīng)推出了真空離子鍍膜。它是在上述兩種真空沉積技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，因此它具有兩種工藝特點(diǎn)。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或蒸騰物質(zhì)(膜材料)部分電離，在離子轟擊下，蒸騰物或其反應(yīng)物堆積在基材表面。在膜的形成過程中，基底不斷受到高能粒子的轟擊，使其非常干凈。

真空繞組鍍膜

真空纏繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積在柔性基板上連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基板的一些功能和裝飾特性。