常見的真空鍍膜設(shè)備按其工作原理可分為蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和復(fù)合鍍膜。

蒸發(fā)式卷取涂膜設(shè)備按蒸發(fā)過(guò)程可分為連續(xù)式、半連續(xù)式和間歇式三種，因設(shè)備結(jié)構(gòu)的不同也可分為:單室、雙室和多室卷取涂膜設(shè)備。主要用于塑料、布、紙、鋼帶等條狀表面真空蒸發(fā)膜，作為食品金屬包裝材料、反光材料、保溫材料、表面裝飾材料、電氣材料及各種標(biāo)志、標(biāo)簽、商標(biāo)等裝飾材料。廣泛應(yīng)用于包裝、裝潢、印刷、紡織、食品、防偽、卷煙、電子工業(yè)等領(lǐng)域。

磁控濺射(直流、中頻、射頻)方法是在柔性基材上沉積各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料，單層或多層涂覆。

適用于柔性基材上電鍍各種介電膜體系(二氧化硅、氮化硅、氧化鋁、SnO2、氧化鋅、Ta2O5等)、導(dǎo)電膜(ITO、偶氮)、基于“AR”技術(shù)的薄膜、減少人力資源的高反射膜、低輻射低輻射膜、合金膜和金屬膜(鋁、鉻、銅、鐵、鎳、SUS不銹鋼、鈦鋁合金等)主要應(yīng)用于:柔性電路板、ITO透明導(dǎo)電膜、薄膜電容器、汽車/火車/船舶薄膜、薄膜太陽(yáng)能電池、柔性太陽(yáng)能電池、FPD平板顯示器、柔性顯示器件等。