材料在真空鍍膜機(jī)鍍膜之前，需要進(jìn)行清洗，也就是目前的真空清洗工藝。真空沉積機(jī)的真空清洗通常定義為在真空處理前從工件或系統(tǒng)材料表面去除不需要的物質(zhì)的過程。由于污染物產(chǎn)生的氣體和蒸汽源會(huì)使真空系統(tǒng)無法達(dá)到所需的真空度，因此對(duì)真空元件進(jìn)行表面清洗處理是必要的。此外，污染物的存在也會(huì)影響真空元件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

1. 真空加熱清洗

在常壓或真空下加熱工件。促進(jìn)其表面揮發(fā)性雜質(zhì)的蒸發(fā)以達(dá)到清洗目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中停留的時(shí)間長短、加熱溫度、污染物的種類、工件的材質(zhì)等有關(guān)。原理是加熱工件。增強(qiáng)吸附在其表面的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕＝馕鰪?qiáng)的程度與溫度有關(guān)。為了在超高真空條件下獲得原子級(jí)別的清潔表面，加熱溫度必須在450攝氏度以上。加熱清洗法特別有效。但有時(shí)，這種治療方法也會(huì)有副作用。由于加熱過程，某些碳?xì)浠衔锟赡芫奂奢^大的顆粒并分解成碳渣

2. 紫外線照射清洗

利用紫外線輻射分解表面碳?xì)浠衔?。例如，暴露在空氣?5小時(shí)可以產(chǎn)生一個(gè)干凈的玻璃表面。如果將經(jīng)過適當(dāng)清洗的表面置于產(chǎn)生臭氧的紫外線源中。一個(gè)干凈的表面(過程清洗)可以在幾分鐘內(nèi)形成。這表明臭氧的存在提高了潔凈度。其清洗機(jī)理是在紫外線照射下，污垢分子被刺激解離，臭氧的產(chǎn)生和存在產(chǎn)生高活性的氧原子。被激發(fā)的污垢分子和由污垢解離產(chǎn)生的自由基與氧原子相互作用。形成更簡單、更易揮發(fā)的分子。