- 真空電鍍設(shè)備膜厚的不均勻問題
無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空2023-06-16 - 涂層真空鍍膜機的常見問題分析鍍膜真空鍍膜機廣泛應(yīng)用于各個行業(yè)。用于滿足各種加工需求和工件材料的高速鋼和硬質(zhì)合金刀具。其性能更穩(wěn)定，工件質(zhì)量更高，可防止功能面、刀片和拉伸半徑的磨損，顯著延長工件的使用壽命，提高沖程率和生產(chǎn)率，降低單位成本。那么，使用鍍膜真空鍍膜機有哪些常見的問題呢？下面真空鍍膜機編輯就為你列舉幾個內(nèi)容:(1)2023-06-16
- 真空鍍膜機的正常工作條件是什么真空沉積機主要是指一種需要在高真空下進(jìn)行的鍍膜設(shè)備，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等類型。真空鍍膜機的正常工作條件是什么？1. 環(huán)境溫度:10~30℃2. 相對濕度:不超過70%3.冷卻水入口溫度:不高于25℃4. 冷卻水水質(zhì):城市自來水或同等水質(zhì)5. 電源電壓:380V、三相50Hz或220V、單相50Hz(根據(jù)所2023-06-07
- 鍍膜前真空鍍膜機的清洗材料在真空鍍膜機鍍膜之前，需要進(jìn)行清洗，也就是目前的真空清洗工藝。真空沉積機的真空清洗通常定義為在真空處理前從工件或系統(tǒng)材料表面去除不需要的物質(zhì)的過程。由于污染物產(chǎn)生的氣體和蒸汽源會使真空系統(tǒng)無法達(dá)到所需的真空度，因此對真空元件進(jìn)行表面清洗處理是必要的。此外，污染物的存在也會影響真空元件連接處的強度2023-06-07
- 真空鍍膜機的種類和原理是什么常見的真空鍍膜設(shè)備按其工作原理可分為蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和復(fù)合鍍膜。蒸發(fā)式卷取涂膜設(shè)備按蒸發(fā)過程可分為連續(xù)式、半連續(xù)式和間歇式三種，因設(shè)備結(jié)構(gòu)的不同也可分為:單室、雙室和多室卷取涂膜設(shè)備。主要用于塑料、布、紙、鋼帶等條狀表面真空蒸發(fā)膜，作為食品金屬包裝材料、反光材料、保溫材料、表面裝飾材料、電氣材料2023-06-07
- 納米涂層可以滲透到硅膠表面的微孔結(jié)構(gòu)硅膠是一種高活性吸附材料，在制作各種密封環(huán)時，密封環(huán)之間形成靜電效應(yīng)且容易相互吸附，硅膠產(chǎn)品表面非常干燥，特別容易吸附灰塵，造成表面臟。perelin工藝通過獨特的CVD方法在硅膠制品表面形成一層薄而透明的perelin膜。perelin涂層具有優(yōu)異的干潤滑性和低摩擦系數(shù)，改善了表面干燥狀況，易吸灰，給用戶帶來2023-05-20
